6月16日，据财闻海外资讯，ENF科技成功实现半导体（881121）级氢氟酸国产化，并于本月初向SK海力士交付首批产品，标志着韩国在该关键材料上打破进口依赖。该产品用于晶圆刻蚀与清洗，已投入产线试运行，计划本月下旬扩展至DRAM等主力产线，未来有望覆盖其半数以上需求。
作为2020年以来国产化推进的里程碑，ENF科技此前长期依赖日本进口氢氟酸生产缓冲氧化蚀刻液（BOE），成本高企。韩国半导体（881121）行业年需氢氟酸约6万吨、BOE达9–10万吨。
公司自2020年起累计投入超1000亿韩元，在忠清南道天安厂区建成完整生产体系，包括首期348亿、追加536亿及2022年509亿二期投资，已形成氢氟酸与BOE一体化产能。
目前，ENF正推进多客户品质验证，目标2026年下半年实现批量外供。受高纯度、高风险及严监管制约，韩国氢氟酸市场长期由日企主导，此次突破将重塑市场格局。
