【中微公司】ICP交付量上升叠加外部环境改善，公司发展迈入新阶段
事项：
2021年6月9日，公司发布最新公告称美国国防部将 Advanced Micro-Fabrication Equipment Inc.(AMEC) 从中国涉军企业名单中删除，美国人士将不再受限对 AMEC 所发行的有价证券及其相关的衍生品进行交易。此外，当日公司官方微信公众号称ICP刻蚀设备Primo nanova®第100台反应腔顺利交付。
支撑评级的要点
美国国防部已将AMEC从中国涉军企业名单中删除。至此，美国人士将不再受限对 AMEC 所发行的有价证券及其相关的衍生品进行交易，也再次验证公司经营的合法合规性以及对各经营地的包括出口管制在内相关法律法规的严格遵守。我们认为公司的外部经营环境得到改善，公司的发展有望更加具备国际竞争力和潜力。
ICP刻蚀单年度交付量正大幅增长。据中微公司2020年度业绩说明会透露，2016-2020年末ICP在线运行反应腔数依次是2、8、21、27、55台，换算成逐年新增腔数为2、6、13、6、28台；截止2021年6月仅单反应台Primo nanova®交付累计达100台，推导今年年初以来新增腔数不低于45台，比2020全年新增腔数28台至少增长61%。
ICP刻蚀产品销售放量，刻蚀设备的行业地位将再次显著提升。中微公司Primo nanova®产品已成功进入海内外十余家客户的晶圆生产线，在领先的逻辑芯片、DRAM 和3D NAND厂商的生产线上实现大规模量产。根据公司业绩说明会材料，ICP刻蚀市场规模76亿美元，而CCP刻蚀市场规模仅为48亿美元，中微公司第100腔Primo nanova®刻蚀设备的顺利交付，是公司ICP刻蚀产品业务发展新的里程碑，标志着刻蚀产品发展迈入新的阶段。
围绕刻蚀技术相关环节的产品平台化日益成型。在立足ICP、CCP刻蚀这一优势领域的基础上，重点向薄膜沉积、量测设备等集成电路工艺设备外延。在薄膜沉积领域，公司参股的沈阳拓荆在长江存储、华虹无锡项目等主流12寸产线上获得重复PECVD订单；公司已组建Epi设备开发团队，主要聚焦Foundry/Logic Device，主要应用于Si、Si/Ge的Epi工艺；已组建LPCVD开发团队，聚焦Memory Device，主要应用于W、WN、TiN等沉积工艺。
盈利预测和投资建议
维持2021-23年公司净利润分别为4.6/6.6/8.4亿元的预测，维持买入评级。
评级面临的主要风险
行业景气度高导致设备零部件采购周期拉长；权益工具投资的公允价值变动风险；地缘政治因素的不确定性风险等。
中微公司ICP刻蚀设备Primo nanova®第100台反应腔顺利交付
2021年6月9日，中微半导体设备（上海）股份有限公司（以下简称“中微公司”，股票代码：688012）在上海总部举办电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo nanova®第100台反应腔交付客户庆祝仪式。中微公司执行副总裁兼首席运营官杜志游博士、集团副总裁兼等离子刻蚀产品事业总部总经理倪图强博士、副总裁兼ICP刻蚀产品部总经理刘身健博士和其他核心团队成员出席了庆祝仪式。
Primo nanova®是中微公司于2018年正式发布的第一代电感耦合等离子体刻蚀设备。该设备采用了中微公司具有自主知识产权的电感耦合等离子体刻蚀技术，具有对称的反应腔、超高分子泵抽速、独特的低电容耦合线圈设计和多区细分温控静电吸盘等创新特性，帮助客户在存储芯片和逻辑芯片的批量生产中获得更好的工艺加工能力和更低的生产成本。
目前，中微公司Primo nanova®产品已成功进入海内外十余家客户的晶圆生产线，在领先的逻辑芯片、DRAM 和3D NAND厂商的生产线上实现大规模量产。在全球客户的信任和支持下，中微公司第100腔Primo nanova®刻蚀设备的顺利交付，是公司ICP刻蚀产品业务发展新的里程碑，标志着产品发展迈入新的阶段。
当前集成电路科技发展日新月异，中微公司将继续在全球客户和产业链合作伙伴的支持下，持续开发极具竞争优势的技术和产品，助力行业实现跨越式发展。
资料来源：中银证券2021年6月14日发布的研究报告《中微公司— ICP交付量上升叠加外部环境改善，公司发展迈入新阶段》，报告作者：
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