技术突破+业绩增长 中微公司2025年度业绩说明会释放强劲信号

　　上证报中国证券网讯2026年4月1日，中微公司在临港产业化基地成功举办2025年度业绩说明会。公司董事长兼总经理尹志尧博士率管理团队出席，与机构投资人、证券分析师及媒体代表深度交流，会议同步通过上证路演、价值在线等平台线上直播，全方位展现公司年度经营成果与未来战略布局。

　　2025年是中微公司实现“有机生长”重大突破、向高端设备平台化集团迈进的关键之年。成立二十余载，公司始终坚守高端半导体微观加工设备研发初心，坚守技术创新、产品差异化、知识产权保护三大原则，拒绝照搬国外标配设备，以技术创新为核心驱动力，实现跨越式发展。

　　年度经营数据再创新高，核心竞争力持续领跑。2025年公司营业收入达123.85亿元，同比增长36.62%，延续十三年年均增速超35%的强劲态势；研发投入37.44亿元，占营收比例30.2%，远超科创板平均水平，六大类超二十款新设备同步推进，新产品研发周期从3-5年大幅缩短至2年以内。运营效率方面，公司全年交付率100%，设备缺陷率优于国际领先厂商，人均年销售额超450万元，经营效率大幅领先国内同行。

　　产品矩阵全面突破，新兴业务爆发式增长。刻蚀设备稳固优势地位，薄膜设备成为增长新引擎，2025年营收同比激增224.23%，十数款导体与介质薄膜设备实现技术与市场双突破。量检测、湿法设备布局稳步推进，收购杭州众硅彰显平台化、集团化发展决心。截至2025年底，公司超7800个反应台在全球170余条产线量产，市场份额持续提升。

　　泛半导体领域多点开花，国产替代成果显著。先进封装TSV第三代刻蚀机即将落地，氮化镓基MOCVD设备保持行业领先，四款新型功率器件与Micro LED专用MOCVD设备推向市场。大平板设备领域实现突破，仅用18个月研发出OLED8.6代线PECVD设备，薄膜厚度均匀性达标并进入产线认证，填补国内技术空白。

　　产能与布局持续升级，长远发展根基稳固。随着广州、成都研发及生产基地启动建设，公司未来厂房总面积将达85万平方米，全面强化研发与制造能力，深化产业链布局。

　　尹志尧博士表示，公司将坚持“三维立体生长”与“有机生长+外延扩展”双轮驱动战略，持续巩固集成电路关键设备优势，拓展泛半导体应用，探索新兴领域。力争五年内覆盖60%以上集成电路高端关键设备与70%以上先进封装设备，2035年跻身全球半导体设备公司第一梯队，以技术自立自强助力我国半导体产业高质量发展。(郑玲)