光刻胶核心原料遭断供！日韩巨头告急，国产替代迎黄金窗口

　　据媒体报道，光刻胶核心原料陷入短缺，全球半导体材料供应链拉响警报。三星电子、SK海力士等韩系半导体巨头已收到日本供应商通知，其韩国分公司光刻胶核心原材料采购出现中断，日本相关企业计划于4月23日正式向客户发函。

　　目前短缺原料为PGME、PGMEA（丙二醇甲醚、丙二醇甲醚醋酸酯），在半导体产业链中，部分材料如光刻胶、抗反射涂层（BARC）、旋涂硬掩模（SOH）以及用于高带宽存储器（HBM）的临时粘合剂，均需要用到PGME和PGMEA。此次短缺的原因依旧是美伊冲突。

　　据报道，后续日本供应商将考虑从中国或韩国采购PGME和PGMEA，评估原料商的关键因素在工艺变更（PCN）流程。三星电子、SK海力士等半导体客户必须重新评估生产工艺，通常大约耗费一年时间。

　　企查查数据显示，截至4月23日，我国现存1089家光刻胶相关企业，区域分布上集中华东地区，占比57.6%；成立年限上，我国光刻胶领域多为老牌企业，成立10年以上的企业占比达51.3%。专利方面，我国现有1.8万项光刻胶相关专利，专利类型上以发明公布为主，占比47.9%，其次是发明授权，占比43.7%，截至4月23日，2026年我国已申请108项光刻胶相关专利。