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二季度湿法设备批量出货,半导体设备业务成长加速
内容摘要
  事件1:6月19日公司交付华虹集团ICRD的300MM单片式湿法设备搬入,标志着至纯旗下至微科技单片和槽式湿法设备二季度出机超十台。

  事件2:公司于6月22日发布公告称,证监会对公司提交的《上市公司非公开发行新股核准》予以受理,本次拟募资不超过14.9亿人民币。

  投资要点

  二季度湿法设备批量出货,全年高增长确定性强

  公司单片清洗和槽式清洗设备二季度出货超10台,上半年总出货量预计10-15台,全年高增长确定。公司交付ICRD的12寸单片清洗设备已获客户认可,其晶圆表面颗粒清洗能力及每小时产出量可以支持到14nm以下的工艺技术节点,达业界一流水平。此外公司至2019年末,已完成了多个工艺的8英寸及12英寸全自动槽式装备,8英寸及12英寸4腔单片装备,12英寸12腔先进工艺单片装备的研发及制造,产品线较为完善,公司产品覆盖面与技术水平均已具备高端清洗设备市场竞争实力。

  非公开发行引入战略投资者,多方面改善提升公司综合竞争力

  本次非公开发行募集资金不超过14.9亿元,其中5亿元拟用于偿还银行贷款,剩余部分用于补充公司流动资金。本次非公开发行可增强公司资金实力、满足业务扩张资金需求;同时降低资产负债率,改善公司财务状况。此外公司引入北京集成电路基金、中芯涌久、国改基金、津联海河、博辰投资等战略投资者,有利于公司增强股东背景,充分调动优质资源促进公司现有业务发展,同时完善公司治理结构,提高整体管理水平,进而提升公司综合竞争力。

  国内高纯工艺系统龙头,后发进军半导体清洗设备业务

  至纯科技主要从事高纯工艺系统和半导体湿法清洗设备业务,2019年收入分别为6.37亿元和0.82亿元,占比总收入的65%和8%。其中,半导体清洗设备业务,虽然起步稍晚,但市场空间大、增速快,是公司的最大业务亮点。2015-2019年公司收入由2.08亿元增长至9.86亿元,CAGR达48%,归母净利润从1770万增长至1.1亿,CAGR达57%。

  进军半导体清洗设备领域,赛道好空间大,容易率先实现全面国产化

  清洗设备在半导体设备市场中价值量占比约5-6%,较光刻、刻蚀等核心设备价值量较低。同时技术门槛也较低,比较容易率先实现全面国产化,故市场空间大。我们预计中国大陆地区每年的湿法清洗设备的空间在15-20亿美元,到2023年清洗机的国产化率可达40%-50%,即国产设备的市场空间在40-70亿元。且预计未来12寸晶圆的槽式和单片式清洗设备将是市场的主要增量,其中单片式清洗机至纯有望成为少数几家具备核心技术的国内设备商。

  公司凭借技术优势,迅速积累了中芯国际、北京燕东、TI、华润等高端客户资源,2019年湿法工艺装备新增订单总额达1.7亿元。目前公司启东一期生产基地全面建成,已达到48套/年的产能,一二期共规划96套/年,公司于2019年12月发行可转债,募资3.56亿元投入槽式和单片式清洗设备的生产制造。项目预计在2022年达产,预计初步可贡献最高达9亿元的清洗机业务的收入规模。我们预计2020到2022年半导体设备收入分别为1.6、2.9、5.0亿元。

  盈利预测与投资评级:

  我们预计公司2020-2022年的净利润分别为1.5亿、2.1亿、2.8亿,当前股价对应动态PE分别为67倍、48倍、36倍,在可比公司中处于最低位置,我们看好公司半导体清洗设备业务的发展,在估值上存在提升空间,维持“增持”评级。

  风险提示:半导体业务进展不及预期;毛利率波动风险。