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MOCVD下游需求回暖,刻蚀设备新产品放量在即
内容摘要
  事件:公司发布2021年一季报,2021Q1年公司实现营业总收入6.03亿元,同比增长46.24%,实现归母净利润1.38亿元,同比增长425.36%。

  点评:

  MOCVD业务回暖,刻蚀设备受下游需求扩张延续高景气。

  公司2021年Q1MOCVD设备收入为1.33亿元,同比增长约76.85%,受高端显示的MiniLED和MicroLED、用于杀菌消毒和空气净化的紫外LED、应用于电力电子的功率器件等新兴领域的应用拓展及逐步推广,下游需求有望逐步回暖,带动公司MOCVD业绩提升;

  刻蚀设备收入为3.48亿元,同比增长约63.75%,据各公司公告披露,中芯国际计划21年成熟12英寸产线扩产1万片,成熟8英寸产线扩产不少于4.5万片;

  华虹半导体、华润微、合肥长鑫等均处于产能爬坡状态;士兰微、上海积塔、广州粤芯等均积极推进新产线建设,下游需求仍处于高景气,公司作为国内刻蚀设备龙头企业有望优先受益。

  盈利能力大幅上升,扣非净利润实现扭亏。公司2021Q1毛利率为40.92%,较上年同期增长约7.06个pct,主要原因为MOCVD需求回暖及刻蚀设备新产品逐渐放量,毛利率均有不同幅度的提升,期间费用率为32.7%,较去年同期上升4.05pct,其中本期股份支付费用较上年同期增加约0.51亿元,扣除股份支付影响后较上年同期增加0.37亿元,整体归属母公司的扣除非经常性损益后的净利润较上年同期增加约0.17亿元,实现扭亏为盈,此外公司政府补助较上年同期增加约1.43亿元,导致总体净利润同比增长425.36%。

  研发投入占比维持高位,刻蚀设备新产品有望放量。2021Q1公司研发投入8597万元,同比上升97.99%,研发费用率达14.25%,同比上升3.73pct,持续维持较高研发投入。公司目前刻蚀设备可分为CCP和ICP,其中CCP领域进入时间较早,目前已成功取得5纳米及以下逻辑电路产线的重复订单,ICP设备于20年初在10家客户的生产线上进行验证并逐步取得客户重复订单,未来将逐步研发以满足5纳米以下的逻辑芯片、1X纳米的DRAM芯片和128层以上的3DNAND芯片等产品的ICP刻蚀需求,并进行高产出的ICP刻蚀设备的研发,公司有望凭借CCP领域深厚的技术积累,在ICP领域抢占一定市场份额。

  投资建议:预计2021~2023年公司净利润分别为5.83亿元、6.96亿元和8.45亿元,对应EPS分别为1.06元、1.26元、1.54元。给与增持-A评级。

  风险提示:国产设备需求不及预期、中美关系恶化、研发进展不及预期。

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