一、事件概述

　　7月22日，根据公司官方微信公众号发布的最新消息，公司已取得重要客户在槽式湿法清洗设备上的批量订单，并于2021年7月21日成功交付3套集成电路全自动槽式湿法清洗设备至客户进行大批量生产。

　　二、分析与判断

　　湿法设备顺利交付，成功进军半导体领域

　　作为光伏电池设备的领先企业，公司顺应产品发展路径，努力向半导体设备领域延伸。公司孙公司创微微电子，专门从事集成电路湿法清洗工艺设备的研发、生产和销售，设备主要包含槽式及单晶圆湿法清洗设备，除此次交付的设备外，正在设计制造中的设备还包含了用于MicroLED、第三代化合物半导体及集成电路IDM厂的槽式清洗设备及相关附属设备，涵盖了集成电路200mm以下近70%湿法工艺步骤，包含有光刻胶去除、氧化膜刻蚀、金属膜刻蚀、炉管前清洗及有机溶剂清洗等。本次湿法清洗设备的交付，表明公司已经成功实现从光伏设备设计制造向泛半导体及半导体行业的拓展。

　　半导体清洗设备国产化加速，公司有望持续受益

　　清洗设备是半导体制成的重要环节之一，其主要用于去除半导体硅片制造、晶圆制造的杂质，光刻、刻蚀、沉积等重复性工序之后都需要进行清洗。根据SEMI的统计，2020年，国内清洗设备国产化率仅为20%，相较于光刻机、刻蚀机等核心设备，清洗设备技术要求略低，因此易于实现国产化突破。公司作为太阳能电池设备领先企业，其生产的清洗制绒、扩散、刻蚀、PECVD设备均与半导体工艺环节相关，此次切入半导体清洗设备领域是公司技术实力的体现，也顺应了半导体设备国产化的趋势。当前包括盛美半导体在内的主要半导体清洗设备厂商正加速推进半导体清洗设备国产化进程，公司作为跨界新星，有望持续受益国产化浪潮带来的红利。

　　TOPCON具备良好兼容性，公司设备端优势持续加强

　　当前PERC电池的转换效率已接近理论极限，但存量产能规模较大。部分电池厂商将优先考虑在原有工艺上，进行技术升级来提高转换效率，而TOPCON电池制作工艺流程与PERC相似，通过增加硼扩散设备、薄膜沉积设备和去绕镀环节清洗等工序，可有效实现产品升级迭代。因此，在提升转换效率基础上，TOPCON具备良好的兼容性。公司在TOPCON工艺上具备丰富的技术储备，优势明显，针对核心工艺流程，布局扩散炉和LPCVD设备，部分产品已实现量产，随着下游厂商需求持续释放，公司业绩有望迎来持续增长。

　　三、投资建议

　　湿法设备的顺利交付，表明公司顺利进入半导体专用工艺设备领域，公司有望长期受益于国家集成电路装备国产化，此外，伴随存量PERC电池产能升级，公司业绩有望迎来持续增长。预计公司2021-2023年，公司实现营收55.14/74.92/94.61亿元，实现归母净利润为9.02/12.40/15.77亿元，当前股价对应PE为64.8/47.2/37.1倍，公司2023年估值水平位于历史估值中枢43.5X下方，长期看仍存在提升空间，维持“推荐”评级。