聚焦十五五

苏大维格

祝您开工大吉!

纳米压印装备

领跑高端制造

苏州“十五五”规划明确将工业母机（885930）及集成化装备列为新兴支柱产业重点培育方向，推动纳米新材料等集群向世界级迈进。纳米压印光刻（NIL）作为光电子、新型显示及半导体（881121）领域的核心共性技术，既是政策落地的关键抓手，契合苏州强化高端制造优势的布局，也为本土企业突破海外技术垄断、抢占高端装备（885427）赛道提供了重要契机。

全球竞速迭代

NIL技术攻坚半导体领域

当前纳米压印产业进入全球竞速迭代期，技术迭代与场景拓展双线并行，半导体（881121）领域已成为国际巨头角逐的核心战场。国际上，日本DNP实现10nm线宽NIL技术突破，佳能加速推进5nm制程NIL装备量产，试图以更低成本替代EUV光刻，破解半导体（881121）先进制程制造瓶颈；国内则在AR光波导、柔性电子及半导体（881121）辅助制程等场景同步发力，头部企业已实现压印光波导量产。行业正向大面积、高精度、绿色化演进，但对准精度、缺陷控制及良率稳定性仍是全球共性难题，而半导体（881121）及AR高端场景的规模化应用，成为技术落地的核心诉求。

新品落地

硬核装备交付，刷新行业进展

苏大维格（300331）近期在纳米压印装备商业化领域再获突破，自主研发的卷对平套准纳米压印光刻系统FlexAligner-P500已完成商用验收，并成功交付消费电子（881124）及半导体（881121）领域头部企业。该设备专攻衍射光波导及DOE衍射光栅制造，凭借500mm范围内±5%以内的压印均匀性、0~20nm的残留层控制等硬核参数，实现大面积、高保真、高效率生产，可匹配新型显示、生物检测、半导体（881121）精密制造等领域需求，为国产高端装备（885427）替代注入强劲动能。

全链条布局引领产业升级

作为国内NIL技术开拓者，苏大维格（300331）深耕微纳制造领域二十余载，构建起从底层原理、装备研制到工艺应用的全链条技术壁垒。自2003年率先实现卷对卷（R2R）纳米压印工业化应用以来，其首创的纳米压印增材制程颠覆传统铜蚀刻工艺，为柔性电子绿色制造树立标杆。依托三维光刻、全息干涉光刻技术，公司突破大面积模具设计制造难题，建立业内领先的完整技术体系，将NIL技术成功导入光学元器件、显示器件、柔性光电子、传感器（885946）件等，如微透镜阵列、光波导片、线栅偏振片、透明电子材料等多产品的量产中，推动技术从实验室走向产业化，引领国内微纳制造产业向全球价值链高端迈进。