国家知识产权局2026年7月28日公布了一项发明专利（申请公布号：CN122464766A），申请人为西陇科学（002584）股份有限公司，发明名称为“一种电子级异丙醇的生产工艺”。该专利属于电子级有机溶剂纯化技术领域，针对现有工艺难以同步去除多形态硼杂质、吸附剂易中毒衰减、纯化流程冗长且易产生二次污染等问题，提出了一种三级梯度除硼纯化方案。
据专利摘要，该工艺构建了MOF改性吸附 螯合吸附 纳米多孔精吸附三级梯度除硼体系，匹配自主制备的羟基改性Zr MOF特异性吸附剂，实现对多形态硼杂质的分级去除，并配套低温无损再生工艺。整个过程在常温常压下进行，不添加外源助剂，可减少二次污染风险并精简纯化流程。
采用该工艺制备的电子级异丙醇，硼杂质≤2.5ppt，单种金属离子≤3ppt，纯度≥99.9995%，达SEMI G5 级标准。此外，吸附剂容量得到提升，使用寿命延长至4年以上，批次稳定性较好。
电子级异丙醇是半导体（881121）、光电显示领域的核心湿电子化学品（881172），产品纯度与杂质控制精度直接影响半导体（881121）器件生产良率与运行可靠性，是先进电子制造产业链的关键基础材料之一。
国际半导体设备（884229）与材料组织（SEMI）通过湿电子化学品（881172）中金属杂质含量、控制粒径范围和颗粒个数等各项指标将湿电子化学品（881172）划分为 G1-G5 五个等级，其中G5 等级的湿电子化学品（881172）要求最高，主要应用于高端制造领域，对硼、金属离子等超痕量杂质要求极高。
西陇科学（002584）在湿电子化学品（881172）领域已形成较完整的产品矩阵，除电子级异丙醇外，硫酸、硝酸、无水乙醇、丙酮等产品同样具备G2至G5多级别。本次申请专利所涉工艺在超痕量除硼及吸附剂使用寿命方面的改进，有望进一步提升产品在先进制程应用中的竞争力。
